focal-showcase-lithography lens design

Entwicklung einer Lithografie-Optik.

Demcon focal ist in der Lage, eine der anspruchsvollsten optischen Präzisionsbaugruppen zu entwickeln, zu liefern und zu qualifizieren: das Lithografieobjektiv. Demcon nutzt hochmoderne Ausrichtungswerkzeuge (OptiCentric®) und Reinraumeinrichtungen, um eine beugungsbegrenzte Abbildung für ein großes Sichtfeld zu erreichen. Wir haben ein Lithografie-Objektiv mit hoher NA und großem Sichtfeld entwickelt, das Halbleiterstrukturen auf Wafern für die Herstellung von Prozessoren, LEDs, MEMS, USB-Speicher usw. abbilden kann.

projektdaten

  • Vergrößerung 0,2x
  • Telezentrisch auf Bildseite
  • FOV 22 mm x 22 mm
  • Beugungsbegrenzt
    • CD < 0,4 µm (NA > 0,5)
    • Hohe CD-Homogenität (< 2 %)
  • Abbildungstiefe > 1 µm
  • Verzeichnung < 100 nm

  • Aktiv einstellbare Vergrößerung
  • Hochdynamische Arbeitsabstandsregelung
  • Minimierung von Vergrößerungs- und Fokusfehlern aufgrund kurzzeitiger Temperaturschwankungen innerhalb von +/-0,1 K

"alles dreht sich um Präzisions-Optomechanik."

Wir bei Demcon focal sind sehr stolz darauf, dass uns die Entwicklung und Realisierung dieses Meisterstücks gelungen ist.